Controllo del plasma elettronico mediante nanostrutturazione metallica

Questo libro descrive la ricerca sul controllo del plasma elettronico mediante nanostrutturazione metallica che a sua volta fornisce un controllo efficiente dei plasmoni di superficie (SP). Questi SP sono onde che si propagano sull'interfaccia tra metallo nobile e dielettrico la cui frequenza dipende dalla frequenza del plasma elettronico del metallo. L'accoppiamento efficiente degli SP con i fotoni nel dielettrico fornisce una localizzazione del campo su scala sub-lunghezza d'onda e queste sorgenti di luce su scala nanometrica sono necessarie nei sistemi di registrazione magnetica assistita dal calore (HAMR). La strutturazione dei metalli (reticolo di diffrazione rettangolare 1-D) su scala nanometrica consente di accoppiare i fotoni a questi SP. Oltre a ciò di particolare interesse in questo caso è l'uso di un substrato ad alto indice di rifrazione ad esempio il fosfuro di gallio (GaP) che è fotoluminescente e viene utilizzato per la compensazione della perdita ohmica su un film d'oro da 50 nm depositato su GaP. Il GaP viene anche utilizzato per emulare il laser a emissione superficiale a cavità verticale (VCSEL) al fine di fornire un'alternativa più economica alla sorgente luminosa utilizzata nella tecnologia HAMR.