Elevação indireta do seio maxilar

A colocação de implantes no maxilar posterior apresenta desafios significativos devido à altura óssea reduzida resultante da perda de dentes expansão do seio ou reabsorção óssea. O processo natural de perda óssea nesta região é acelerado pela falta de vascularização e estimulação muscular o que compromete a qualidade do osso. Para além disso o seio maxilar estende-se frequentemente para baixo reduzindo ainda mais a altura óssea disponível necessária para uma colocação segura do implante. Historicamente os implantes na parte posterior do maxilar eram colocados sem abordar a topografia do seio resultando frequentemente em problemas protéticos devido a uma flexibilidade e tensão excessivas. Este facto levou a potenciais falhas dos implantes e à incerteza quanto ao sucesso a longo prazo dos implantes subperiosteais. Para ultrapassar estes problemas a técnica de elevação do seio maxilar introduzida por Tatum Jr. e documentada por Boyne tornou-se um procedimento vital para aumentar o pavimento do seio maxilar de modo a facilitar a colocação de implantes. Existem dois métodos principais para a elevação do pavimento do seio: a abordagem de uma fase (transalveolar) e a abordagem de duas fases (janela lateral).