Óxido de níquel

O Capítulo 3 descreve a metodologia utilizada na síntese de eléctrodos de película fina de óxido de níquel através de uma via aquosa com destaque para a manipulação dos parâmetros preparativos incluindo ingredientes concentrações temperaturas de decomposição e volumes de solução. A análise termogravimétrica inicial do nitrato de níquel hexa-hidratado indicou a formação de resíduos estáveis para além de 573 K. As experiências subsequentes foram efectuadas variando as concentrações da solução de pulverização de 02 M para 10 M mantendo a temperatura de deposição e a velocidade de pulverização constantes a 623 K e 2 ml/min respetivamente. A otimização seguinte foi conseguida explorando várias temperaturas de decomposição (entre 623 K e 723 K) mantendo uma velocidade de pulverização constante de aproximadamente 2 ml/min utilizando a concentração óptima previamente identificada (08 M).8 M). As condições optimizadas (08 M e 673 K) foram subsequentemente aplicadas a deposições de película com o volume da solução como parâmetro variável variando de 30 a 110 ml. A análise eletroquímica do elétrodo AV-1 optimizado foi realizada utilizando diferentes electrólitos ou seja KCl LiCl2 Na2SO4 NaOH e KOH.