Produção de películas finas de óxido de zinco por pirólise por pulverização

Neste trabalho é demonstrado o desenvolvimento de várias séries de filmes finos de óxido de zinco por pirólise por pulverização sob diferentes condições de deposição. São também descritas as várias técnicas utilizadas (Profilómetro Difração de Raios X Espectrofotometria UV-Visível Elipsómetro de Cancelamento e a técnica de duas pontas numa configuração coplanar) para estudar as propriedades estruturais ópticas e eléctricas destes filmes (espessuras de camada tamanho de grão tensões índice de refração band gap parâmetro de Urbach condutividade eléctrica e energia de ativação). Os filmes obtidos são policristalinos com uma única estrutura de fase hexagonal würtzite. A análise dos espectros de transmissão e o aumento da condutividade com a temperatura de medição mostram que é possível obter películas finas de ZnO transparentes e semicondutoras.