Sintesi al plasma di film di carbonio

Lo scopo di questo lavoro è stato quello di utilizzare processi al plasma per depositare sottili film di carbonio su alcuni substrati (vetro silicio e vetro rivestito di FTO) e poi corroderli in un plasma SF6 combinato con H2 O2 e Ar al fine di aumentare la rugosità e di conseguenza l'area di contatto di questi film con l'elettrolita di una cella solare sensibilizzata ai coloranti (DSSC). I film prodotti sono stati caratterizzati e studiati mediante profilometria SEM XRD XPS AFM RAMAN FTIR goniometria e misure di resistenza di foglio a 4 punti. Queste analisi hanno mostrato che i film sottoposti al processo di testurizzazione al plasma hanno ottenuto un modello nano-strutturale caratteristico per ogni combinazione di gas utilizzata. L'analisi goniometrica ha mostrato che la TT ha reso i film depositati idrofobici. Tuttavia dopo averli sottoposti al processo di testurizzazione al plasma sono diventati super idrofili. Questi risultati (aumento della rugosità e dell'idrofilia) sono di grande importanza per l'applicazione di questi film nei controelettrodi DSSC.