Untersuchungen des elektrischen Widerstands von Metallchalkogenid-Halbleitern

Halbleiter sind die unbestrittenen Säulen der modernen Technologie. In den letzten zehn Jahren haben sich halbleitende Metalldichalcogenid-Schichten als vielversprechende Materialien für eine breite Palette von Anwendungen in der Optoelektronik und Transistortechnologie herauskristallisiert. Aus diesem Grund ist die Kenntnis ihrer elektrischen Eigenschaften unter variablen Temperatur- oder Druckbedingungen für solche Anwendungen wichtig. Darüber hinaus ist die Erforschung von Materie unter extremen Bedingungen ein zentrales Thema in einem breiten Spektrum wissenschaftlicher Disziplinen (z. B. Materialwissenschaft Chemie Physik Erd- und Planetenforschung). Im Hinblick auf diese Aspekte werden in diesem Buch verschiedene Methoden zur Kristallzüchtung experimentelle Hochdruckerzeugungsmethoden Magnetowiderstandsstudien und die Messung des elektrischen Widerstands von Metallchalkogeniden bei hohem Druck und niedriger Temperatur beschrieben.