Vaniglia (Vanilla planifolia Andr.)

Nel 2011/2012 nella regione sud-occidentale dell'Etiopia è stato valutato l'effetto dei substrati di radicazione e del numero di nodi per talea sulle prestazioni in vivaio della vaniglia profumata. In questo esperimento sono stati utilizzati sei substrati di radicazione (terreno forestale letame animale decomposto sabbia fine miscela 1:1 di terreno forestale e sabbia fine miscela 1:1 di letame animale decomposto e sabbia fine e miscela 1:1:1 di terreno forestale letame animale decomposto e sabbia fine) e quattro livelli di numero di nodi (talee con due tre quattro e cinque nodi). I trattamenti sono stati disposti in un disegno a blocchi casuali completi con tre repliche. Il risultato ha rivelato che l'interazione tra i due fattori era significativa (P<005) per tutti i parametri studiati eccetto la percentuale di germogliamento e il numero di radici. La lunghezza la circonferenza il peso fresco e il peso secco dei germogli il numero di foglie l'area fogliare il peso fresco e il peso secco delle foglie e il rapporto radici/germogli più elevati sono stati ottenuti da talee a quattro nodi coltivate su un substrato di radicazione composto da una miscela 1:1:1 di terriccio forestale letame animale decomposto e sabbia fine ad eccezione della lunghezza delle radici e della percentuale di radicazione più elevate ottenute dalle talee coltivate su un substrato di radicazione composto da sabbia pura.